1. 使用FIB(focused Ion Beam)電子顯微鏡
a.進行金屬、陶瓷、複合材料、半導體相關產品切片製備分析
b.TEM超薄片(lamella)製作
2. 使用TEM(Transmission Electron microscopy)穿透式電子顯微鏡
a. 使用穿透式電子顯微鏡進行各種超薄片分析
b. 使用穿透式電子顯微鏡進行製程結構、顯微組織及材料成份觀察分析
3. 做二休二,每日12小時 【日班】07:30~19:30 【夜班】19:30~07:30 需配合安排日/夜班別每5個月左右輪調一次 需配合班制及配合固定加班或不加班